創傷性口炎主要由以下三類原因引導，細分為機械性、化學性及物理性因素：
機械性因素
此為最常見的原因，會導致創傷性潰瘍。根據刺激持續時間，可分為：
- 持久性刺激：如齲齒造成的殘冠、殘根、尖銳牙尖、磨損後的牙緣、不合適修復體的卡扣、長期存在的過長舌系帶與新出乳牙的摩擦等，會造成慢性口腔損傷。
- 非持久性刺激：如硬脆食物（油炸或烘烤食品）、硬橡皮奶嘴、咬傷、刷毛過硬或刷牙方法不當、牙科操作不慎等，可能導致急性粘膜損傷。
化學因素
常見為腐蝕性物質接觸口腔粘膜，例如強酸、強鹼、治療用酚類、硝酸銀、三氧化二砷等，可能因誤食、使用不當或自傷而導致炎症。
物理性因素
較少見，主要包括：
- 熱損傷：飲用過熱的飲料、茶水或食物導致的燙傷。
- 放射性損傷：超量放射線照射（全身或頭面部）會引發急性放射病或放射性口炎；戰時多見於核爆炸，和平期間則常因癌症放射治療或輻射事故造成。